鍍膜機
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            鍍膜機

            伯東公司 鍍膜機-靈活設計適合技術研究、開發和生產,可實現高真空蒸發鍍膜,磁控濺射鍍膜,離子鍍.鍍膜機(高真空鍍膜系統)經過大量實驗和技術知識積累研發設計,通過ISO 9001認證, ISO 14001認證,低能耗
            主要應用領域: 半導體,光學,微電子學,顯示屏,光電工程,表面處理等行業.

            鍍膜機主要型號包含:
            鍍膜機(科研,小型研發)
            鍍膜機(科研,小規模生產)
            鍍膜機 (批量生產)
            鍍膜機 (生產線大批量生產)
            鍍膜機 (高吞吐量,通用的制造系統,滿足最高工業需求)
            鍍膜機 (最大吞吐量)

            鍍膜機主要優勢:
            pfeiffer鍍膜機腔體
            可搭配多種泵組(渦輪分子泵、低溫泵或油擴散泵)
            鍍膜機真空腔體可冷卻可加熱,極限真空度最高可達 < 5 · 10-7 mbar,腔體漏率 < 1 · 10-5 mbar l/s
            真空腔體大小 35 至 1300 l(特殊尺寸可定制)
            鍍膜機各種尺寸大小,根據實際應用和氣體吞吐量決定
            內置各種標準配件,堅固耐用滿足嚴苛工業環境
            低運營成本,易維護,兼容潔凈室
            通過附加配件升級鍍膜機功能
            鍍膜機所有真空腔體均是不銹鋼材質
            通過ISO 9001認證, ISO 14001認證,低能耗

             鍍膜機工藝:
            pfeiffer德國普發鍍膜機

            鍍膜機 蒸鍍過程優勢:
            pfeiffer 鍍膜機蒸鍍
            抗反射涂層
            耐劃傷性涂料
            激光面鏡
            接觸金屬化
            合金的沉積(Co-evaporation)

             鍍膜機 磁控濺射介紹:
            pfeiffer 鍍膜機 磁控濺射
            除了高真空蒸鍍系統,伯東公司德國普發pfeiffer 也提供磁控濺射腔體可選load-lock.相應型號Classic 250 to 570,有標準版本供選擇或根據濺射過程選擇(SP)定制版本
            可用于:
            金屬層(金、銅、鋁、鉻、…)
            電介質層(二氧化硅,氧化鋁,…)
            透明導電層(ITO
            磁層
            合金的沉積(co-sputtering)

            伯東公司 鍍膜機客戶現場圖片:
            pfeiffer 鍍膜機

            pfeiffer 鍍膜機

            pfeiffer 鍍膜機

            pfeiffer 鍍膜機

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