KRI 考夫曼離子源 KDC 10
            閱讀數: 2962

            KRI 考夫曼離子源 KDC 10

            KRI 考夫曼離子源 KDC 10
            上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設計, 低成本等優點廣泛應用在顯微鏡領域, 標準配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 10mA.

             KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數

            型號

            KDC 10

            供電

            DC magnetic confinement

             - 陰極燈絲

            1

             - 陽極電壓

            0-100V DC

             - 柵極直徑

            1cm

            中和器

            燈絲

            電源控制

            KSC 1202

            配置

            -

             - 陰極中和器

            Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

             - 架構

            移動或快速法蘭

             - 高度

            4.5'

             - 直徑

            1.52'

             - 離子束

            集中
            平行
            散設

             -加工材料

            金屬
            電介質
            半導體

             -工藝氣體

            惰性
            活性
            混合

             -安裝距離

            2-12”

             - 自動控制

            控制4種氣體


            KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域
            離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
            濺鍍和蒸發鍍膜 PC
            輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
            表面改性, 激活 SM
            離子濺射沉積和多層結構 IBSD
            離子蝕刻 IBE

            其他產品

                      大發百家樂
                      福建快3一定牛推荐