射頻離子源 RFICP 380
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            射頻離子源 RFICP 380

            美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:
            1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長.
               2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
            2. 離子源結構模塊化設計
            3. 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
            4. 柵極材質鉬和石墨,堅固耐用
            5. 中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發射,確保電荷中性
            6. 通氣 Ar, O2, N2, others
            7. 離子束流: 電流: > 500毫安, 能量 100-1200eV
            射頻離子源 RFICP 380 技術參數

            型號

            RFICP 380

             

            Discharge 陽極

            RF 射頻

             

            離子束流

            >1500 mA

             

            離子動能

            100-1200 V

             

            柵極直徑

            30 cm Φ

             

            離子束

            聚焦, 平行, 散射

            流量

            15-50 sccm

             

            通氣

            Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

             

            典型壓力

            < 0.5m Torr

             

            長度

            39 cm

             

            直徑

            59 cm

             

            中和器

            LFN 2000

             

            1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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